国内半导体行业设备需求增加，拓荆科技去年净利预计最多增近5倍 ...

拓荆科技 视觉中国 资料图

1月29日，国内半导体专用设备厂商拓荆科技股份有限公司（下称“拓荆科技”，688072）公告披露2022年年度业绩，经财务部门初步测算，预计公司2022年年度实现营业收入16.50亿元至17.20亿元，与上年同期相比（同比）增加 8.92亿元至9.62亿元，同比增长117.69%至126.92%。
公告称，预计公司2022年年度实现归属于母公司所有者的净利润为3.30亿元至4.00亿元，同比增加2.62亿元至3.32亿元，同比增长381.85%至484.06%。
经财务部门初步测算，拓荆科技预计2022年年度实现归属于母公司所有者扣除非经常性损益后净利润为1.60亿元至1.90亿元，与上年同期相比实现扭亏为盈，同比增加2.42亿元至2.72亿元。
拓荆科技称，公司预计2022年年度业绩较上年同期大幅增长，其主要原因为：受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内半导体行业设备需求增加，同时公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，进一步拓展客户群体，本年销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。
此外，拓荆科技称，在公司持续加大研发投入的情况下，期间费用率有所下降，规模效应驱动公司盈利水平提高，归属于上市公司股东的净利润和归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比有较大幅度提升。
拓荆科技成立于2010年4月，总部位于沈阳市浑南区，是国家高新技术企业，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司聚焦研发和生产半导体薄膜沉积设备，该设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。
据官网介绍，该公司在北京、上海、海宁、美国成立四家子公司，产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、中国台湾等20多个地区的60条生产线。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。
2022年4月，拓荆科技正式登陆科创板。自上市以来，该公司股价已累计上涨近260%。