您是否为了一个EBSD样品而泡在实验室一整天，但最终还是达不到EBSD样品的标定率而苦恼?您是否为了一个截面样品制备而小心翼翼，但最终还是无法看到截面样品信息而苦恼?您是否还为了一个孔隙结构样品被机械抛光操作时填满孔隙结构，而无法判定样品的真实信息而苦恼?
如果是，那您一定需要金鉴的制样服务：
金鉴提供氩离子切割、抛光制样服务+SEM观察服务。金鉴实验室拥有氩离子束抛光系统设备，金鉴提供氩离子切割、抛光制样服务改变了此前人们用手动或机械研磨的方法对样品进行研磨抛光的局限性。利用氩离子精密抛光装置，可以获得平滑的截面和平面，而不会对样品造成机械损害，是扫描电镜样品制备的新型手段，目前已经广泛应用于材料制样。
金鉴提供氩离子切割、抛光制样服务：
金鉴工程师在接收到客户的样品后，会针对客户所送样品的材质和制样要求作分析，制定出具体的氩离子切割、抛光方案。金鉴工程师针对不同的样品的硬度、材质等情况，设置不同的电压、电流、离子枪的角度、离子束窗口，控制氩离子作用的深度、强度、角度、这样精准的参数，有利于制备成研究者理想的材料样品，这样的样品不仅表面光滑无损伤，而且还原材料内部的真实结构，正如页岩内部的细微孔隙在SEM下放大到100K时也能看得清清楚楚，以及材料内部的不同物质分层都能看的分界线明显。
图为金鉴工程师对页岩进行氩离子抛光后的SEM图
设备名称：氩离子抛光/切割仪 图为金鉴实验室设备 — 氩离子抛光/切割仪
设备型号：Gatan 685
设备原理：
氩离子切割技术是一种利用宽离子束（〜1mm）来切割样品，以获得宽阔而精确的电子显微分析区域的样品表面制备技术。一个坚固的挡板遮挡住样品的非目标区域，有效的遮蔽了下半部分的离子束，创造出一个侧切割平面，去除样品表面的一层薄膜。
氩离子抛光技术是对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在 SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。 适用范围：
金鉴实验室提供的氩离子切割/抛光制样的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。 具体应用领域有： • EBSD 样品 • 光伏、半导体 • 金属(氧化物, 合金) • 陶瓷 • 地质样品，油页岩 • 高分子，聚合物 • CL
典型应用案例：
1 EBSD样品制备氩离子束抛光是利用高电流密度的氩离子束对样品进行减薄，氩离子相对镓离子来说非常轻，产生的应力层、非晶层非常薄，可以避免由于制样方法对实验数据产生的误导，同时由于晶格畸变较小，可以提高 EBSD的标定率，降低标定参数，从而有效提高标定效率，节约时间。
以下三幅图片试样采用氩离子抛光/切割仪在 1 kV的条件下进行抛光后，在 20 kV条件下得到的碳化钨 /钴样品的 EBSD结果，其中的钴没有发生 FCC到 HCP的相变。(照片由英国曼切斯特大学 A Gholinia博士提供)。
2页岩样品制备
SEM图像，视野：1mm x 600 microns， 可见小至4nm的孔隙
3新能源锂离子电池有机薄膜 阳极 、阴极粉末样品截面
4半导体行业-PCB板
5Si基太阳能电池
金鉴实验室配置了氩离子抛光设备，欢迎送样测试！
1. 送样前需要对样品进行预处理：
样品预磨抛，样品要磨平，样品的上下表面要平行，样品抛光面至少用4000目砂纸磨平，在显微镜下看起来光滑，不粗糙。
2. 样品的尺寸要求: 2.1块状样品： 以待抛光区域为中心点，样品直径不超过30mm、厚度0~20mm。（超出部分需要磨走）
2.2粉末样品：10g以上。
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